钽靶材 用途：主要应用于半导体镀膜和光学镀膜
牌号：RO5200，RO5400 纯度：99.95% ,99.99% 规格：方靶材，厚度x宽度x长度=5～25x≤800x≤2000（mm） 圆靶材，厚度x直径=5～25x≤Φ800（mm）
纯度：99.95% ,99.99% 规格：方靶材，厚度x宽度x长度=5～25x≤800x≤2000（mm） 圆靶材，厚度x直径=5～25x≤Φ800（mm）
