电子枪蒸镀原理和系统构造 |
[ 信息发布:本站 | 发布时间:2018-04-01 | 浏览:1608次 ] |
电子枪蒸镀原理和系统构造—宝鸡睿钛金属
原理:
系统构造:
鸡睿钛金属长期生产蒸发镀膜耗材:钛,镍,锆,钽,铌及铌合金,钨,钼,钴,坩埚,舟,蒸发镀膜颗粒,靶材,紧固件,法兰,管件,欢迎咨询。
一般低功率电子枪之电子束的折射方向是靠永久磁铁的磁场,而高功率电子枪则需使用电磁铁。 电子束加速后可直接撞击在薄膜材料上使之蒸发,但蒸发之原子或分子会污染电子源,因此通常将电子源藏在装薄膜材料之枪座底下,而利用强力磁场将电子束偏向180°或270°。 因电子枪蒸镀法,对某些精密光学元件的薄膜品质要求而言仍有不足,其膜层微观结构呈现柱状形态,孔隙多,装填密度低,造成较大的光学吸收,且耐潮性、硬度及附着度都较差。 基于此项考量,近年的发展趋势是使用离子枪辅助蒸镀方式解决,下图为离子枪辅助蒸镀法,在电子枪蒸镀设备中加设一离子枪,以氩离子束直接轰击基板表面。在镀膜前之轰击可清洁基板表面,有助于提高薄膜之附着度,因此,电子枪蒸镀加离子枪辅助可适用于各种高品质薄膜的制镀,尤其是在光学薄膜应用领域。 |